Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/5557
Назва: Remanent resistance changes at pcmo-metal interfaces: electrical induced polaron ordering
Автори: Meyer, B.-U.
Scherff, M.
Hoffmann, J.
Whu, L.
Zhu, Y.
Jooss, Ch.
Бібліографічний опис: Remanent resistance changes at pcmo-metal interfaces: electrical induced polaron ordering / B.-U. Meyer, M. Scherff, J. Hoffmann, L. Whu, Y. Zhu, Ch. Jooss // Oxide materials for electronic engineering – fabrication, properties and application OMEE-2009 : international scientific workshop, June 22–26, 2009, Lviv, Ukraine : book of abstracts / Lviv Polytechnic National University. – Lviv, 2009. – P. 147.
Дата публікації: 2009
Видавництво: Видавництво національного університету „Львівська політехніка”
Теми: electric pulse induced resistance changes (EPIR)
RRAM-technologies
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/5557
Тип вмісту : article
Розташовується у зібраннях:Оксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування. – 2009 р.

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
107.pdf4,01 kBAdobe PDFПереглянути/відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.