Please use this identifier to cite or link to this item: http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/42657
Title: Особливості двостороннього хіміко-механічного полірування (ХМП) пластин кремнію
Other Titles: Aspects of two side chemical-mecanical polishing (CMP) for silicon plates
Authors: Завербний, І. Р.
Кузьо, Г. Д.
Чегіль, І. І.
Гринь, Г. В.
Лаушник, Г. Ф.
Affiliation: НВП “Карат”
ТзОВ “Пролог Семікор”
НТЦ “Мікроелектроніка”
Bibliographic description (Ukraine): Особливості двостороннього хіміко-механічного полірування (ХМП) пластин кремнію / І. Р. Завербний, Г. Д. Кузьо, І. І. Чегіль, Г. В. Гринь, Г. Ф. Лаушник // Вісник Національного університету "Львівська політехніка". – 2001. – № 430 : Електроніка. – С. 68–72. – Бібліографія: 7 назв.
Journal/Collection: Електроніка
Issue Date: 2001
Publisher: Видавництво Національного університету "Львівська політехніка"
Country (code): UA
Place of the edition/event: Львів
UDC: 621.3.049.77.002.5-187.4
Number of pages: 68–72
Abstract: У роботі наведені результати експериментальних досліджень впливу факторів технологічного процесу двостороннього ХМП пластин кремнію орієнтації (111) і (100) n і p-типу на якість поверхні. Показано, що режимом глибокого окислення та пониженого тиску декорується дефектна структура пластин. Some results of experimental investigetion how quality of silicon plates of n and p-type with (111) and (100) orientation depends from CMP technology parameters. It was demonstrated that the deep oxydition and low pressure region decorates the defect structure of the plates.
URI: http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/42657
Copyright owner: © Завербний І. Р., Кузьо Г. Д., Чегіль І. І., Гринь Г. В., Лаушник Г. Ф., 2001
References (Ukraine): 1. Технология СБИС. Под ред. С. Зи, 1986. 2. Богданов Е.И., Гринь Г.В., Живов М.Д. // Электронная промышленность. 1989. 12. С. 37. 3. Карбань В П., Борзаков Ю.И. Обработка монокристаллов в микроэлектронике, М., 1988. 4. Кизилов В.Д. // П/п техника и микроэлектроника. 1976. 23. С. 46 - 49. 5. Кручинин А.У., Лесовая Ж.К., Ранкова С.В. // Электронная промыгш ленность. 1974. 4. С. 74 - 76. 6. Завадская В.Ф., Марин К.Г., Хохлов А.И. // Электронная промыгш ленность. 1990. 4. С. 36 - 38. 7. ГОСТ 19658 - 81. Кремний монокристаллический в слитках. Технические условия.
Content type: Article
Appears in Collections:Електроніка. – 2001. – №430

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
13_68-72.pdf208,22 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.