Please use this identifier to cite or link to this item: http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/24135
Title: Контроль температури в установках реактивного іонно-плазмового напилення з використанням термометра випромінення
Authors: Гоц, Наталія
Кривенчук, Юрій
Bibliographic description (Ukraine): Гоц Н. Контроль температури в установках реактивного іонно-плазмового напилення з використанням термометра випромінення / Наталія Гоц, Юрій Кривенчук // Вимірювальна техніка та метрологія : міжвідомчий науково-технічний збірник / відповідальний редактор Б. І. Стадник. – Львів : Видавництво Львівської політехніки, 2011. – Випуск 72. – C. 45–50. – Бібліографія: 8 назв.
Issue Date: 2011
Publisher: Видавництво Львівської політехніки
Abstract: Процес виготовлення елементів мікроелектроніки на основі процесу іонно-плазмового напилення потребує неперервного контролю температури кремнієвої підкладки. Запропоновано використовувати для цього термометр випромінення. Розглянуто особливості вимірювання температури підкладки термометром випромінення у процесі іонно-плазмового напилення. Процесс создания элементов микроэлектроники на основе процесса ионно-плазменного напыления требует непрерывного контроля температуры кремниевой подкладки. Предложено использовать для этого термометра излучения. Рассмотрены особенности измерения температуры подкладки терметром излучения в процессе ионно-плазменного напыления. The process of creation of elements of microelectronics on the base of process of ion – plasma spraying process needs continuous control of lining temperature. In the article the use is offered for this thermometer of radiation. The features of measuring of temperature of lining of radiation thermometer are considered in the process of spraying process.
URI: http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/24135
Content type: Article
Appears in Collections:Вимірювальна техніка та метрологія. – 2011. – Випуск 72

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
6-Hots-45-50.pdf331,01 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.